Effect of hydrogen addition on the deposition of titanium nitride thin films in nitrogen added argon magnetron plasma

Saikia, P; Bhuyan, H; Diaz, D: Guzman, F; Maendl, S; Saikia, B.K; Favre, M; Maze, J; Wyndham, E

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Título de la Revista: JOURNAL OF PHYSICS D: APPLIED PHYSICS
Fecha de publicación: 2016
Página de inicio: 225203
Página final: 225203
DOI/URL:

http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/49/22/225203