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CONTRIBUTIONS TO PLASMA PHYSICS  (2000)

A compact ultrafast capillary discharge for EUV projection lithography

Krisch I.; Choi P.; Larour J.; Favre, M; Rous J.; Leblanc C.

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Título de la Revista: CONTRIBUTIONS TO PLASMA PHYSICS
Volumen: 40
Asunto: 2014
Editorial: Wiley-Blackwell
Fecha de publicación: 2000
Página de inicio: 135
Página final: 140
DOI/URL:

10.1002/(SICI)1521-3986(200004)40:1/2<135::AID-CTPP135>3.0.CO;2-F