Article ISI
Journal of Physics D: Applied Physics  (2013)

Dual Radio Frequency Plasma Source: Understanding via Electrical Asymmetry Effect

Bora B.; Bhuyan H.; Favre M.; Wyndham E. S.; Wong C. S.

Más información

Título de la Revista: Journal of Physics D: Applied Physics
Volumen: 113
Asunto: 1
Fecha de publicación: 2013
Página de inicio: 153301
Página final: 153305
DOI/URL:

http://dx.doi.org/10.1063/1.4801874