Article ISI
Pattern Recognition Letters  (2011)

Characterization of contour regularities based on the Levenshtein edit distance.

Abreu, J.; Rico-Juan, J.

Más información

Título de la Revista: Pattern Recognition Letters
Volumen: 32
Fecha de publicación: 2011
Página de inicio: 1421
Página final: 1427
DOI/URL:

http://dx.doi.org/10.1016/j.patrec.2011.03.021