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JOURNAL OF APPLIED PHYSICS  (2013)

Dual radio frequency plasma source: Understanding via electrical asymmetry effect

Bora, B; Bhuyan, H; Favre M.; Wyndham, E; Wong, CS

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Título de la Revista: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
Volumen: 113
Asunto: 15
Editorial: AMER INST PHYSICS
Fecha de publicación: 2013
Página de inicio: 0
Página final: 0
DOI/URL:

10.1063/1.4801874