Mismatch of lateral field metal-oxide-metal capacitors in 180 nm CMOS process

Abusleme, A; Dragone, A.; Haller G.; Murmann B.

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Título según WOS: Mismatch of lateral field metal-oxide-metal capacitors in 180 nm CMOS process
Título según SCOPUS: Mismatch of lateral field metal-oxide-metal capacitors in 180 nm CMOS process
Título de la Revista: Electronics Letters
Volumen: 48
Número: 5
Editorial: Institution of Engineering and Technology
Fecha de publicación: 2012
Página de inicio: 286
Página final: 287
Idioma: English
URL: http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-84858122966&partnerID=40&md5=e1103c7e21a346bb96794cb35c987093
DOI:

10.1049/el.2011.3804

Notas: ISI, SCOPUS