Abstract

(EN) Procedure and reactor for the obtainment of nanoparticles. The plasma reactor of FIG. 1 is used, having a vacuum chamber 3, a plasma chamber 4 provided with a cathode, a collection channel the walls whereof act as anode, a gas inlet 1 to the vacuum chamber 3, and a gas inlet 2 to the plasma chamber 4. The desired vacuum is attained, excitation of the plasma is initiated and modulated through rectangular pulses, silane diluted in argon is introduced, synchronising the flow of the carrier gas with the modulation of the plasma such that the total pressure is constant, and finally nanoparticles are collected. It is useful for the obtainment of nanoparticles of small size (up to 3 nm in diameter) having low dispersion (less than 15%), including at ambient temperature, of both amorphous silicon and crystalline silicon. (ES) Procedimiento y reactor para la obtención de nanopartículas Se usa el reactor de plasma de la FIG.1, que tiene una cámara de vacío 3, una cámara de plasma 4 provista de un cátodo, un canal de recolección cuyas paredes actúancomo ánodo, una entrada de gases 1 a la cámara de vacío 3, y una entrada de gases 2 a la cámara de plasma 4. Se realiza el vacío deseado, se inicia la excitación del plasma y se modula con pulsos rectangulares, se introduce silano diluido en argón, sincronizando el flujo del gas de arrastre con la modulación de plasma de manera que la presión total sea constante, y finalmente se recolectan las nanopartículas. Es útil para la obtención de nanopartículasde tamaños pequeños (hasta 3 nm de diámetro) y de baja dispersión (menor que 15%), incluso a temperatura ambiente, tanto de silicio amorfo como de silicio cristalino. (FR) La présente invention concerne un procédé et un réacteur pour l'obtention de nanoparticules. On utilise le réacteur de plasma de la FIG.1 qui comprend une chambre à vide (3), une chambre à plasma (4) comportant une cathode, un canal de récupération dont les parois jouent le rôle d'anode, une entrée de gaz (1) pour la chambre à vide (3) et une entrée de gaz (2) pour la chambre à plasma (4). On obtient le vide souhaité, on provoque l'excitation du plasma et on module avec des impulsions rectangulaires, on introduit du silane dilué dans de l'argon, en synchronisant le flux du gaz d'entraînement avec la modulation du plasma de sorte que la pression totale soit constante et en dernier lieu, on récupère les nanoparticules. La présente invention permet d'obtenir des nanoparticules de petites dimensions (jusqu'à 3nm de diamètre) et à faible dispersion (moins de 15%), y compris à température ambiante, aussi bien de silane amorphe que de silicium cristallin.