Article
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS  (2021)

Silicon cantilevers locally heated from 300 K up to the melting point: Temperature profile measurement from their resonances frequency shift

Basile Pottier, Felipe Aguilar Sandoval, Mickaël Geitner, Francisco Esteban Melo, and Ludovic Bellon

Más información

Título de la Revista: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
Volumen: 129
Fecha de publicación: 2021
Página de inicio: 184503
URL: https://doi.org/10.1063/5.0040733