Improving the quality of meshes for the simulation of semiconductor devices using Lepp-based algorithms

Hitschfeld N.; Villablanca, L; Krause, J; Rivara, MC

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Título de la Revista: INTERNATIONAL JOURNAL FOR NUMERICAL METHODS IN ENGINEERING
Volumen: 58
Asunto: 2
Editorial: Wiley-Blackwell
Fecha de publicación: 2003
Página de inicio: 333
Página final: 347
DOI/URL:

10.1002/nme.767