Article ISI
JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS  (2016)

Effect of hydrogen addition on the deposition of titanium nitride thin films in nitrogen added argon magnetron plasma

P. Saikia, H. Bhuyan, D. E. Diaz-Droguett, J. R. Maze, F. Guzman, E. Wyndham and S. Mandl

Más información

Título de la Revista: JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS
Editorial: IOP PUBLISHING LTD
Fecha de publicación: 2016
Página de inicio: 2252031
Página final: 22520310
DOI/URL:

http://iopscience.iop.org/article/10.1088/0022-3727/49/22/225203/pdf