Article ISI
CHEMICAL ENGINEERING COMMUNICATIONS  (2016)

In-Situ FTIR kinetic study in the silylation of low-k films with hexamethyldisilazane dissolved in supercritical CO2

Vyhmeister, Eduardo; Valdés-González, Héctor; Reyes-Bozo, Lorenzo; Rodríguez-Maecker, Roman; Muscat, Anthony; Estévez, L. Antonio; Suleiman, David

Más información

Título de la Revista: CHEMICAL ENGINEERING COMMUNICATIONS
Editorial: TAYLOR & FRANCIS INC
Fecha de publicación: 2016
Página de inicio: 908
Página final: 916
DOI/URL:

10.1080/00986445.2015.1124098