Effect of hydrogen addition on the deposition of titanium nitride thin films in nitrogen added argon magnetron plasma

Saikia P., Bhuyan H., Diaz-Droguett D. E., Guzman F., Mändl S., Saikia B. K., Favre M., Maze J.,Wyndham E.

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Título de la Revista: JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS
Editorial: IOP PUBLISHING LTD
Fecha de publicación: 2016
Página de inicio: 225203
Página final: 225208
DOI/URL:

http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/49/22/225203