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JOURNAL OF CHEMICAL PHYSICS  (2005)

Atomic force microscopy measurements of topography and friction on dotriacontane films adsorbed on a SiO2 surface

Trogisch, S.; Simpson, MJ; Taub H.; Volkmann, UG; Pino, M; Hansen, FY

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Título de la Revista: JOURNAL OF CHEMICAL PHYSICS
Volumen: 123
Asunto: 15
Editorial: AIP
Fecha de publicación: 2005
Página de inicio: 154703
DOI/URL:

10.1063/1.2060707