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CHEMICAL PHYSICS LETTERS  (2003)

A novel growth mode of alkane films on a SiO2 surface

Mo H.; Taub H.; Volkmann, UG; Pino, M; Ehrlich, SN; Hansen, FY; Lu E.; Miceli P.

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Título de la Revista: CHEMICAL PHYSICS LETTERS
Volumen: 377
Asunto: 2014
Editorial: Elsevier
Fecha de publicación: 2003
Página de inicio: 99
Página final: 105
DOI/URL:

10.1016/S0009-2614(03)01106-0