High-resolution ellipsometric study of an n-alkane film, dotriacontane, adsorbed on a SiO2 surface

Volkmann, UG; Pino, M; Altamirano, LA; Taub H.; Hansen, FY

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Título de la Revista: JOURNAL OF CHEMICAL PHYSICS
Volumen: 116
Asunto: 5
Editorial: AIP
Fecha de publicación: 2002
Página de inicio: 2107
Página final: 2115
DOI/URL:

10.1063/1.1429645