Article
Chemical Engineering Communications  (2016)

In-Situ FTIR Kinetic Study in the Silylation of Low-k Films with Hexamethyldisilazane Dissolved in Supercritical CO2

Vyhmeister E., Valdés-González H.; Reyes-Bozo L., Rodríguez-Maecker R.; Muscat A., Estévez L.A.

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Título de la Revista: Chemical Engineering Communications
Volumen: 203
Asunto: 7
Editorial: Taylor & Francis
Fecha de publicación: 2016
Página de inicio: 908
Página final: 916
DOI/URL:

10.1080/00986445.2015.1124098