Studies on scalability and scaling laws for the plasma focus=> similarities and differences in devices from 1 MJ to 0.1 J

Soto L., Pavez C.; Tarifeño A., Moreno; J, Veloso F.

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Título de la Revista: Plasma Sources Science and Technology
Volumen: 19
Asunto: 5
Editorial: Institute of Physics
Fecha de publicación: 2010
DOI/URL:

10.1088/0963-0252/19/5/055017