Article
APPLIED SURFACE SCIENCE  (2007)

Effect of high energy ion irradiation on silicon substrate in a pulsed plasma device

Bhuyan, H; Favre, M.; Valderrama, E; Avaria, G; Guzman, F; Chuaqui H., Mitchell; I, Wyndham E.; Saavedra, R; Paulraj, M.

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Título de la Revista: APPLIED SURFACE SCIENCE
Volumen: 254
Asunto: 1
Editorial: ELSEVIER SCIENCE BV
Fecha de publicación: 2007
Página de inicio: 197
Página final: 200
DOI/URL:

10.1016/j.apsusc.2007.07.029