Nitriding of Ti substrate using energetic ions from plasma focus device

Henriquez, A; Bhuyan, B; Favre, M; Bora, B; Wyndham, E; Chuaqui, H; Mändl, S; Gerlach, JW; Manova, D

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Título de la Revista: JOURNAL OF PHYSICS: CONFERENCE SERIES 370(1)
Editorial: IOP PUBLISHING LTD
Fecha de publicación: 2012
Página de inicio: 12010
Página final: 12014
DOI/URL:

doi:10.1088/1742-6596/370/1/012010