Mismatch of lateral field metal-oxide-metal capacitors in 180 nm CMOS process

Angel Abusleme; Angelo Dragone; Gunther Haller; Boris Murmann

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Título de la Revista: IET Electronics Letters
Fecha de publicación: 2012
Página de inicio: 286
Página final: 287
DOI/URL:

http://ieeexplore.ieee.org/xpl/articleDetails.jsp?arnumber=6164331