Nitriding of Ti substrate using energetic ions from plasma focus device

Henríquez Á.; Bhuyan, H; Favre, M.; Bora, B; Wyndham E.; Chuaqui, H; Mandl, S; Gerlach J.W.; Manova, D.

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Título según WOS: Nitriding of Ti substrate using energetic ions from plasma focus device
Título según SCOPUS: Nitriding of Ti substrate using energetic ions from plasma focus device
Título de la Revista: Journal of Physics: Conference Series
Volumen: 370
Número: 1
Editorial: Institute of Physics Publishing
Fecha de publicación: 2012
Idioma: English
URL: http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-84863607628&partnerID=40&md5=fb00c16c9d94b1e2cfd50a837ad49205
DOI:

10.1088/1742-6596/370/1/012010

Notas: ISI, SCOPUS