Article ISI SCOPUS
Journal of Dentistry  (2015)

Does active application of universal adhesives to enamel in self-etch mode improve their performance?

Loguercio, AD; Munoz, MA; Luque-Martinez, I; Hass, V; Reis, A; Perdigão J.

Keywords: enamel, Etch-and-rinse, Self-etch, Degree of conversion, Microshear bond strength, Universal adhesive systems

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Título según WOS: Does active application of universal adhesives to enamel in self-etch mode improve their performance?
Título según SCOPUS: Does active application of universal adhesives to enamel in self-etch mode improve their performance?
Título de la Revista: Journal of Dentistry
Volumen: 43
Número: 9
Editorial: Elsevier Ltd.
Fecha de publicación: 2015
Página de inicio: 1060
Página final: 1070
Idioma: English
DOI:

10.1016/j.jdent.2015.04.005
Notas: ISI, SCOPUS