Article ISI SCOPUS
CHEMICAL ENGINEERING COMMUNICATIONS  (2016)

Study of Low-k Film Functionalization and Pore Sealing Using Chlorosilanes Dissolved in Supercritical Carbon Dioxide

Vyhmeister E.; Reyes-Bozo, L.; Rodríguez-Maecker R.; Muscat A.; Suleiman D.; Estévez L.A.

Más información

Título según WOS: Study of Low-k Film Functionalization and Pore Sealing Using Chlorosilanes Dissolved in Supercritical Carbon Dioxide
Título según SCOPUS: Study of Low-k Film Functionalization and Pore Sealing Using Chlorosilanes Dissolved in Supercritical Carbon Dioxide
Título de la Revista: CHEMICAL ENGINEERING COMMUNICATIONS
Volumen: 203
Número: 7
Editorial: TAYLOR & FRANCIS INC
Fecha de publicación: 2016
Página de inicio: 880
Página final: 889
Idioma: English
DOI:

10.1080/00986445.2015.1116068
Notas: ISI, SCOPUS