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CHEMICAL ENGINEERING COMMUNICATIONS  (2016)

In-Situ FTIR Kinetic Study in the Silylation of Low-k Films with Hexamethyldisilazane Dissolved in Supercritical CO2

Vyhmeister E.; Valdés-González H.; Reyes-Bozo, L.; Rodríguez-Maecker R.; Muscat A.; Estévez L.A.; Suleiman D.

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Título según WOS: In-Situ FTIR Kinetic Study in the Silylation of Low-k Films with Hexamethyldisilazane Dissolved in Supercritical CO2
Título según SCOPUS: In-Situ FTIR Kinetic Study in the Silylation of Low-k Films with Hexamethyldisilazane Dissolved in Supercritical CO2
Título de la Revista: CHEMICAL ENGINEERING COMMUNICATIONS
Volumen: 203
Número: 7
Editorial: TAYLOR & FRANCIS INC
Fecha de publicación: 2016
Página de inicio: 908
Página final: 916
Idioma: English
DOI:

10.1080/00986445.2015.1124098
Notas: ISI, SCOPUS