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APPLIED SURFACE SCIENCE  (2017)

Oxygen accumulation on metal surfaces investigated by XPS, AES and LEIS, an issue for sputter depth profiling under UHV conditions

Steinberger, R.; Bruckner, B.; Roth, D.; Duchoslav, J.; Kurnsteiner, P.; Steck, T.; Faderi, J.; Riener, C.K.; Stefter, D.

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Título según WOS: Oxygen accumulation on metal surfaces investigated by XPS, AES and LEIS, an issue for sputter depth profiling under UHV conditions
Título según SCOPUS: Oxygen accumulation on metal surfaces investigated by XPS, AES and LEIS, an issue for sputter depth profiling under UHV conditions
Título de la Revista: APPLIED SURFACE SCIENCE
Volumen: 411
Editorial: Elsevier
Fecha de publicación: 2017
Página de inicio: 189
Página final: 196
Idioma: English
DOI:

10.1016/j.apsusc.2017.03.163
Notas: ISI, SCOPUS - ISI