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Effect of process parameters on properties of argon–nitrogen plasma for titanium nitride film deposition
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| Título de la Revista: | JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A |
| Volumen: | 31 |
| Número: | 6 |
| Editorial: | MELVILLE |
| Fecha de publicación: | 2013 |
| Página de inicio: | 061307 |
| DOI: |
10.1116/1.4821540 |