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Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films  (2013)

Effect of process parameters on properties of argon–nitrogen plasma for titanium nitride film deposition

Saikia, Partha; Kakati, Bharat

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Título de la Revista: Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films
Volumen: 31
Número: 6
Fecha de publicación: 2013
Página de inicio: 061307
DOI:

10.1116/1.4821540