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APPLIED PHYSICS LETTERS  (2016)

Intrinsic electron traps in atomic-layer deposited HfO2 insulators

Cerbu, F; Madia, O; Andreev, DV; Fadida, S; Eizenberg, M; Breuil, L; Lisoni, JG; Kittl, JA; Strand, J; Shluger, AL; Afanas'ev, VV; Houssa, M; Stesmans, A

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Título según WOS: Intrinsic electron traps in atomic-layer deposited HfO2 insulators
Título según SCOPUS: Intrinsic electron traps in atomic-layer deposited HfO2 insulators
Título de la Revista: APPLIED PHYSICS LETTERS
Volumen: 108
Número: 22
Editorial: AMER INST PHYSICS
Fecha de publicación: 2016
Idioma: English
DOI:

10.1063/1.4952718
Notas: ISI, SCOPUS