Compact and ultrashort capillary discharge for extreme UV projection lithography

Choi, P; Krisch I.; Larour J.; Dumitrescu C.; Favre, M.; Chuvatin A.; Rous J.; Leblanc C.; Guilbert A.

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Título según WOS: Compact and ultrashort capillary discharge for extreme UV projection lithography
Título de la Revista: Journal De Physique. IV : JP
Volumen: 11
Número: PR7
Editorial: Les Editions de physique
Fecha de publicación: 2001
Página de inicio: 29
Página final: 30
Idioma: French
URL: http://www.edpsciences.org/10.1051/jp4:2001710
DOI:

10.1051/jp4:2001710

Notas: ISI