Sistema con arco eléctrico en atmosfera controlada, que comprende una sección de alimentación, una sección de descarga y reacción, seguida de un sistema de aceleración de carga superficial, que conduce a una sección de acumulación y relajación; y proceso continuo para la producción de material nanométrico en dicho sistema.
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| Fecha de publicación: | 2017 |
| DOI: |
Concedida 2017: Patente 54341, chile |