Riesgos Psicosociales Laborales, Caracter�sticas Organizacionales y Salud Mental: El Rol Mediador de la Violencia Laboral
Abstract
Resumen: La exposición a riesgos psicosociales y violencia laboral se asocia con una mayor presencia de problemas de salud mental en los/as trabajadores/as. El presente estudio tuvo como objetivo indagar el rol mediador de la violencia laboral entre los riesgos psicosociales (ISOSTRAIN, desbalance esfuerzo-recompensa), antecedentes organizacionales (liderazgo tiránico) y problemas de salud mental (distrés) en 1023 trabajadores/as de tres hospitales públicos chilenos de alta complejidad de tres regiones del país. Se hipotetizó que la exposición a riesgos psicosociales y algunas características organizacionales (liderazgo tiránico) se asocia a menores niveles de salud mental y que parte de este efecto se encuentra mediado por la exposición a violencia laboral. Se aplicó un cuestionario incluyendo el Negative Act Questionnaire Revised (NAQ-R), el Screening de Distrés Psicológico, la Escala de Liderazgo Destructivo, el Cuestionario de Desbalance Esfuerzo-Recompensa y el Job Content Questionnaire. Mediante análisis de senderos, se observó que la exposición a riesgos psicosociales, liderazgo tiránico y violencia laboral aumenta los niveles de distrés de los/as trabajadores/as. Parte del efecto de los riesgos psicosociales y el liderazgo tiránico en la salud mental se encuentra mediado por la exposición a violencia laboral. El artículo termina discutiendo la necesidad de avanzar en protocolos y prevención de riesgos psicosociales y violencia laboral, en particular en el contexto del trabajo en salud pública.
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Título según WOS: | ID SCIELO:S0718-22282022000100104 Not found in local WOS DB |
Título según SCIELO: | Riesgos Psicosociales Laborales, Características Organizacionales y Salud Mental: El Rol Mediador de la Violencia Laboral |
Volumen: | 31 |
Número: | 1 |
Fecha de publicación: | 2022 |
Página de inicio: | 1 |
Página final: | 18 |
Idioma: | es |
DOI: |
10.7764/psykhe.2019.22383 |
Notas: | ISI, SCIELO |