H2O2 as a strong catalyzer for the growth velocity of SILAR-deposited ZnO thin films
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Título de la Revista: | CHEMICAL PHYSICS LETTERS |
Volumen: | 787 |
Editorial: | Elsevier |
Fecha de publicación: | 2022 |
Página de inicio: | 139233-1 |
Página final: | 139233-10 |
Idioma: | Inglés |
URL: | https://doi.org/10.1016/j.cplett.2021.139233 |
Notas: | ISI; SCOPUS |