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CHEMICAL PHYSICS LETTERS  (2022)

H2O2 as a strong catalyzer for the growth velocity of SILAR-deposited ZnO thin films

Sandoval, Myrna

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Título de la Revista: CHEMICAL PHYSICS LETTERS
Volumen: 787
Editorial: Elsevier
Fecha de publicación: 2022
Página de inicio: 139233-1
Página final: 139233-10
Idioma: Inglés
URL: https://doi.org/10.1016/j.cplett.2021.139233
Notas: ISI; SCOPUS