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Journal of Applied Physics  (2013)

Dual radio frequency plasma source: Understanding via electrical asymmetry effect

Bora, B.; Bhuyan, H.; Favre, M.; Wyndham E.; Wong, CS

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Título según WOS: Dual radio frequency plasma source: Understanding via electrical asymmetry effect
Título según SCOPUS: Dual radio frequency plasma source: Understanding via electrical asymmetry effect
Título de la Revista: Journal of Applied Physics
Volumen: 113
Número: 15
Editorial: American Institute of Physics Inc.
Fecha de publicación: 2013
Idioma: English
URL: http://scitation.aip.org/content/aip/journal/jap/113/15/10.1063/1.4801874
DOI:

10.1063/1.4801874
Notas: ISI, SCOPUS