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JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS  (2016)

Effect of hydrogen addition on the deposition of titanium nitride thin films in nitrogen added argon magnetron plasma

Saikia P.; Bhuyan, H; Diaz-Droguett, D. E.; Guzman, F; Mndl, S; Saikia, B K; Favre, M.; Maze, J. R.; Wyndham E.

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Título según WOS: Effect of hydrogen addition on the deposition of titanium nitride thin films in nitrogen added argon magnetron plasma
Título según SCOPUS: Effect of hydrogen addition on the deposition of titanium nitride thin films in nitrogen added argon magnetron plasma
Título de la Revista: JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS
Volumen: 49
Número: 22
Editorial: IOP PUBLISHING LTD
Fecha de publicación: 2016
Idioma: English
DOI:

10.1088/0022-3727/49/22/225203
Notas: ISI, SCOPUS